لیتوگرافی پروجکشن

چاپ پروجکشن
مانند عکاسی فیلم، با فشار دادن دکمه شاتر، نور از طریق لنز به فیلم پخش می شود و در معرض دید قرار می گیرد. پس از آن، تصویر با خیساندن فیلم در محلول در حال توسعه از طریق "شستشوی عکس" به دست می آید. لیتوگرافی پروجکشن به دلیل کارایی بالا و مزایای غیر مخرب-، تکنولوژی اصلی لیتوگرافی برای مدارهای مجتمع است.

3a. اسکن چاپ پروژه
تحقیقات در اواخر دهه 1970 و اوایل دهه 1980 آغاز شد. اندازه ماسک و الگو در این دستگاه لیتوگرافی 1:1 می باشد که به این معنی است که اندازه روی ماسک با اندازه الگوی روی فترزیست برابر است. دلیل نامیده شدن آن اسکن به این دلیل است که نور از طریق یک شکاف باریک به زیرلایه منتقل می شود و معمولاً چندین خط را همزمان در معرض دید قرار می دهد. زیرلایه باید جابجا شود تا تمام نواحی با انرژی نور در معرض دید قرار گیرند.
ویژگی ها: گره های فرآیند از 180 نانومتر تا 130 نانومتر، نسبت صفحه ماسک 1:1، نوردهی در اندازه کامل-.

3b. مرحله چاپ تکرار پروژه (همچنین به عنوان Stepper شناخته می شود)
تحقیقات در اواخر دهه 1980 و 1990 با استفاده از یک سیستم عدسی برای نمایش الگوهای یک ماسک بر روی یک بستر در یک منطقه کوچک آغاز شد. پس از هر بار قرار گرفتن در معرض یک منطقه کوچک، بستر به موقعیت بعدی می رود تا زمانی که کل بستر در معرض دید قرار گیرد. یک منطقه در معرض یک "شات" است. از آنجایی که از طریق یک سیستم لنز نمایش داده می شود، معمولاً هنگام استفاده از نور فرابنفش 365 نانومتری از صفحه 5 برابر استفاده می شود، به این معنی که اندازه الگوی روی صفحه ماسک 5 برابر اندازه مقاومت نوری واقعی است. بنابراین، می توان الگوهای پیچیده تری را روی صفحه ماسک طراحی کرد، اما دشواری ساخت سیستم منشور را افزایش می دهد.

3c. چاپ پروژه مرحله اسکن (همچنین به عنوان اسکنر شناخته می شود)
از اواخر دهه 1990، این نوع ماشین عموماً در تولید نیمه هادی های پیشرفته برای فرآیندهایی با قطر کمتر یا مساوی 0.18 میکرومتر استفاده می شود. در طول فرآیند نوردهی، ماسک در یک جهت حرکت می کند در حالی که ویفر به طور همزمان در جهتی عمود بر آن حرکت می کند.
ویژگی ها: افزایش میدان دید برای هر نوردهی. جبران سطح ناهموار ویفرهای سیلیکونی را فراهم کنید. یکنواختی اندازه کل ویفر سیلیکونی را بهبود بخشید. با این حال، به دلیل نیاز به حرکت معکوس، الزامات دقت سیستم مکانیکی افزایش می یابد. اسکنرها معمولا بازده تولید بالاتری نسبت به سایر ماشین های نوردهی دارند و طراحی و ساخت آنها بسیار پیچیده است. هزینه های خرید و نگهداری اسکنرها نیز بالاست.

لیتوگرافی دو طرفه-با دقت بالا
عمدتاً برای تحقیق و تولید مدارهای مجتمع کوچک و متوسط-، اجزای نیمه هادی، دستگاه های الکترونیک نوری، دستگاه های موج صوتی سطحی، مدارهای فیلم نازک، و دستگاه های الکترونیکی قدرت استفاده می شود.
دستگاه لیتوگرافی دو طرفه شامل یک سیستم کنترل حرکت، یک سیستم پردازش تصویر، نرم افزار سیستم و یک واحد کنترل پردازش ورودی/خروجی داده است.

لیتوگرافی یک طرفه-با دقت بالا
یک دستگاه لیتوگرافی با دقت بالا- برای کالج‌ها، دانشگاه‌ها، شرکت‌ها و مؤسسات تحقیقاتی مختلف بر اساس ویژگی‌های استفاده از دستگاه لیتوگرافی توسعه یافته است. از آن برای تحقیق و تولید مدارهای مجتمع کوچک و متوسط-، اجزای نیمه هادی، دستگاه های الکترونیک نوری و دستگاه های موج صوتی سطحی استفاده می شود.
این شامل یک میز کار با دقت بالا، یک سیستم نمایش میکروسکوپی CCD میدان دید جدا شده دوچشمی، یک سر نوردهی، یک سیستم پنوماتیک، یک سیستم خط لوله خلاء، یک پمپ خلاء آزاد با روغن متصل مستقیم، یک میز کار ضد لرزش، و یک جعبه لوازم جانبی است.
مشکل ناهماهنگی ناشی از ناتوانی در جداسازی صفحات به دلیل{0}}زیرهای دایره ای، قطعات، و سطوح ناهموار زیرلایه را حل کنید.